其实我就是说说而已，你这个老总怎么还当真了呢？
模具厂要生产的生产线非常的多。
今年还要给行台和郑轻厂生产风云和雷鸣的生产线。
最主要的还有两条新世纪的装配线要完成，是必须完成，而且十月份之前还要投产利用。
李星自然不可能老在崧威这里。
江宇当然也不会老待在这里，他接到了一个爆炸性的消息。
渤海电子把浸润式光刻机给鼓捣出来了，一下子就把华国的芯片制程提高到了193纳米。
要知道当时的华国最高芯片制程还停留在五百纳米阶段。
而且它们还有可能打破芯片制程的瓶颈，突破193纳米。
这对江宇而言是个天大的惊喜。
六年！六年啊！
他在这个项目上的投资已经六年，累
积投入了数以两亿计的资金。
头两年他的投资都是千万，第三年上涨到了三千万。
三千万投了两年，最近两年更是每年的投入达到了五千万。
如果再不成功，后年他的投资将以亿元来算计。
他以为这个光刻机要到两千年才能成功，想不到今年就成功了。
江宇第一时间就赶到了渤海电子，听取了渤海电子光刻机部门经理徐家树的汇报。
「现在能投入芯片量产吗？」
「暂时还不能，这台机器还相当的简陋，运作也还不稳定，现在还处于试验阶段，只是理论上。能达到生产的需求，实际上还根本做不到。要它稳定下来还得继续试验，要投入商用还不知道的哪年，就算商用也还只能生产193纳米的芯片。」
「那再往下呢？」
193纳米只是追平了国外十多年前的制程，这没什么可炫耀的。
顶多就是我可以生产这个级别的制程了。
「理论上可以实现134纳米的制程，甚至64纳米的制程，不过需要时间。」
此时的光刻机市场被佳能和尼康两个本子国企业把持。
它们现在押注157纳米的干式光刻机的研发，根本就没有人研究湿式光刻机的研发。
它们认为光刻机这么精密的仪器，里面加水这一听就是胡扯的东西。
而研究成功浸润式光刻机的是台积电人林本见，是他设计出了浸润式光刻机的方案，带着这个方案跑遍了米国得国本子国，但无人理会。
尼康甚至仗着垄断地位要求台积电雪藏林本见。
林本见走投无路之下才找到了当时在这一领域只配给人家提鞋的阿斯米。
在二零零四，研发出了世界第一台浸润式光刻机。